[화이트페이퍼=김민우 기자] 삼성전자가 면적이 좁고 성능이 뛰어난 10㎚(나노미터) 3세대 반도체 공정을 공개했다.
3일 IT(정보기술) 업계에 따르면 삼성전자는 이날 미국에서 열린 ‘삼성 파운드리 포럼’에서 14나노와 10나노 LPU 기술을 선보였다. 삼성전자는 업계 최초 10나노 1세대 공정 양산에 돌입했고, 10나노 3세대 공정 기술까지 공개하며 공정 확대 계획을 밝혔다.
14나노 4세대 공정인 14LPU는 3세대 LPC 공정과 같은 전력을 사용하지만 성능은 더 뛰어나다. 3세대 10나노 공정인 10LPU는 이전 세대 공정인 LPE와 LPP와 같은 성능이지만 면적이 좁다는 게 장점이다.
아울러 삼성전자는 7나노 EUV 웨이퍼와 EUV 공정 개발 현황에 대해서도 발표했다. 대만 TSMC가 7나노 공정 본격화를 밝힌 상태지만 업계는 삼성전자가 초기 비용을 고려해 당분간 10나노 기술에 주력할 것으로 보고 있다.
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