위기 극복 선봉장, 삼성 이재용 "국민성원의 보답은 혁신...한계의 벽을 넘자"
위기 극복 선봉장, 삼성 이재용 "국민성원의 보답은 혁신...한계의 벽을 넘자"
  • 김예솔 기자
  • 승인 2020.03.25 11:16
  • 댓글 0
이 기사를 공유합니다

이재용 삼성전자 부회장이 19일 삼성디스플레이 아산 사업장을 방문해 디스플레이 생산라인을 둘러보고 있다. (사진=삼성전자)
이재용 삼성전자 부회장이 19일 삼성디스플레이 아산 사업장을 방문해 디스플레이 생산라인을 둘러보고 있다. (사진=삼성전자)

[화이트페이퍼=김예솔 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 위기 극복을 위해 '현장 경영'을 이어갔다.

25일 삼성전자에 따르면 이재용 부회장은 이날 경기도 수원시에 있는 삼성종합기술원을 찾아 신기술 연구·개발 현황을 보고 받고 차세대 미래 기술 전략을 점검했다.

이 부회장과 임직원들은 차세대 인공지능(AI) 반도체와 소프트웨어 알고리즘, 양자 컴퓨팅 기술, 미래 보안기술, 반도체·디스플레이·전지 혁신 소재 등 선행 기술에 대해 논의했다.

이 부회장은 사회적 문제인 미세먼지 해결을 위해 지난해 설립한 미세먼지 연구소의 추진 전략도 살펴봤다.

이 부회장은 "어렵고 힘들 때일수록 미래를 철저히 준비해야 한다"면서 "국민의 성원에 우리가 보답할 수 있는 길은 혁신"이라며 "한계에 부딪혔다고 생각될 때 다시 한번 힘을 내 벽을 넘자"고 강조했다.

이날 간담회에는 김기남 삼성전자 DS부문 부회장, 황성우 삼성종합기술원장 사장, 강호규 삼성전자 반도체연구소장, 곽진오 삼성디스플레이 연구소장 등이 배석했다.

삼성종합기술원은 1987년 미래 준비를 위한 기초 연구와 핵심 원천 기술 선행 개발을 위해 개관했다. 현재 17개 연구실에서 연구원 1200여명이 차세대 기술을 연구하고 있다.

이 부회장의 현장 경영은 올 들어 지난 1월 화성사업장 반도체연구소, 브라질 마나우스, 2월 EUV  V1라인, 3월 구미사업장과 아산 디스플레이 사업장 방문에 이어 6번째다.

특히, 삼성전자는 이날 EUV 공정을 적용해 생산한 1세대(1x) 10나노급 DDR4 D램 모듈 100만개 이상을 공급했다고 발표했다.

EUV 노광 기술을 적용하면 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 공정을 줄이면서 패터닝 정확도를 높이게 된다. 이를 통해 성능과 수율을 향상시키고 제품 개발 기간을 단축할 수 있는 장점이 있다.

삼성전자 관계자는 "이 부회장의 관심과 임직원들의 노력으로 EUV 공정 기술 기반의 사업 성과가 점차 가시화하고 있다"고 설명했다.

화이트페이퍼, WHITEPAPER

관련기사

댓글삭제
삭제한 댓글은 다시 복구할 수 없습니다.
그래도 삭제하시겠습니까?
댓글 0
댓글쓰기
계정을 선택하시면 로그인·계정인증을 통해
댓글을 남기실 수 있습니다.